2022-06-21 拓墣产业研究院

中国半导体光罩产业发展动态

焦点报告 IC制造与封测中国半导体

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摘要

光罩(Photomask)又称掩膜版、光掩膜等，是微电子制造过程中的图形转移工具或母版，是承载图形设计和工艺技术等智慧财产权资讯的载体。光罩品质的优劣将直接影响光刻品质，通常1片晶圆所需电路图样要由15～30片以上光罩堆叠而成。光罩广泛应用于半导体、面板与印刷电路板，其中半导体光罩份额约60%，制作难度也最高，本篇报告重点叙述用于半导体制程的光罩情况。

中国半导体光罩产业发展动态

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