光罩工作原理
摘要
光罩(Photomask)又称掩膜版、光掩膜等,是微电子制造过程中的图形转移工具或母版,是承载图形设计和工艺技术等智慧财产权资讯的载体。光罩品质的优劣将直接影响光刻品质,通常1片晶圆所需电路图样要由15~30片以上光罩堆叠而成。光罩广泛应用于半导体、面板与印刷电路板,其中半导体光罩份额约60%,制作难度也最高,本篇报告重点叙述用于半导体制程的光罩情况。
光罩(Photomask)又称掩膜版、光掩膜等,是微电子制造过程中的图形转移工具或母版,是承载图形设计和工艺技术等智慧财产权资讯的载体。光罩品质的优劣将直接影响光刻品质,通常1片晶圆所需电路图样要由15~30片以上光罩堆叠而成。光罩广泛应用于半导体、面板与印刷电路板,其中半导体光罩份额约60%,制作难度也最高,本篇报告重点叙述用于半导体制程的光罩情况。
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