2022-07-14 拓墣产业研究院

化合物半导体关键设备发展动态

焦点报告 IC制造与封测化合物半导体

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摘要

纵观化合物半导体产业链，高品质外延层的制备对元件性能至关重要，现阶段商业化外延设备主要有MOCVD(金属有机化合物化学气相沉积)、MBE(分子束外延)与HTCVD(高温化学气相沉积)三类，另外的HVPE设备则多由厂商自行搭建。从技术角度看，MOCVD/MBE设备服务于大多数III-V族化合物半导体，例如GaAs/GaN/InP元件；HTCVD则专门用于制造Si/SiC元件。

化合物半导体关键设备发展动态

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