极紫外光EUV发展性之研析
摘要
早期从有线电话和黑金刚演进至现今的多功能智慧型手机,半导体技术发展扮演举足轻重的角色,晶片内电路线宽能持续微缩,仰赖的是精密的仪器设备。半导体制程中,黄光制程可谓关键中的关键,黄光设备的进步使线宽CD(Critical Dimension)可达1Xnm;然而10nm以下,浸润式曝光机亦将面临瓶颈,EUV曝光机的导入将成为趋势,本篇研究报告将探讨EUV发展性和对市场的影响。
早期从有线电话和黑金刚演进至现今的多功能智慧型手机,半导体技术发展扮演举足轻重的角色,晶片内电路线宽能持续微缩,仰赖的是精密的仪器设备。半导体制程中,黄光制程可谓关键中的关键,黄光设备的进步使线宽CD(Critical Dimension)可达1Xnm;然而10nm以下,浸润式曝光机亦将面临瓶颈,EUV曝光机的导入将成为趋势,本篇研究报告将探讨EUV发展性和对市场的影响。
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